设备销售设备优点

磁控溅射真空离子镀膜设备制造与销售
设备优点
．特别设计的磁场分布产生高密度离子流，确保镀层质量
．可沉积高致密度、低内应力纳米晶、非晶镀层
．可在低温条件下沉积致密镀层，适用于低温回火零部件及工模具镀层
．自主开发的OEM ( optical Emission Monitor ）系统在镀层工艺过程中全程自动控制镀层的成分
．高效的离子清洗保证了镀层优异的结合力
．易于获得多元复合或调幅结构镀层
．可生产高硬度、低摩擦系数、结合力高的各类固体润滑镀层
．易操作，稳定性高，重复性好，适用于所有类型镀层
标准配置
 全计算机控制及镀层工艺设计软件
 Advanced Energy Pinnacle6 * 6 磁靶直流电源
 Advanced Energy Pinnacle Plus 偏压电源
 配备Edwards 数显动态规的Penning / Pirani 真空监控系统
 新型OEM 控制系统严格保证反应镀层沉积时准确稳定的成分和化学计量比
 特别设计的闭合磁场系统
 双壁、水冷、竖直安放的不锈钢腔体
 两套可拆卸档板，方便腔体进行清理
 标准样品架一套
 标准装炉推车一套
选配配置
 Polycold 冷凝系统
 两轴或三轴样品转动架
 内置式加热器
 可根据客户需求，选配其他类型的电源及真空 系统

设备标准型号

可提供镀层范围
．各种常规工业镀层
．非晶、纳米、多层结构镀层
．梯度镀层
．贵金属镀层：金、铂、银、钯
．复合组合镀层
．客户要求的特殊镀层
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